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半导体/光电光学行业高纯水设备工艺流程


工艺一:原水箱(设有压力保护)→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软化过滤器(根据地域及水源不同及选用)→保安过滤器→RO反渗透高压泵→RO反渗透系统→纯水箱→EDI增压泵→EDI电去离子主机→去离子水箱→去离子水泵→核能级抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水(水质可以达到18MΩ.cm以上0.055μs/㎝以下,25℃)


工艺二:
原水(设有压力保护)→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软化过滤器(根据地域及水源不同及选用)→精密过滤器→中间水箱→一级RO高压泵→一级RO反渗透系统→RO水箱→二级RO高压泵→二级RO水箱→增压泵→EDI(CEDI)电去离子水主机→去离子水箱→去离子水泵→抛光混床→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水(水质可以达到18MΩ.cm以上即0.055 μs/㎝以下,25℃)

以上工艺流程仅供参考,如需了解购买水处理设备请来电索取祥细的设计方案书。


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